- 10,739
- 18
- 8 Ноя 2022
Китай вот-вот изменит правила игры в полупроводниковой индустрии.
Китай Для просмотра ссылки Войдиили Зарегистрируйся построить гигантский завод по производству микросхем с использованием ускорителя частиц, что может стать прорывом в обход американских санкций и вывести страну на лидирующие позиции в полупроводниковой индустрии. Эта инновация обещает высокий объем производства при низкой стоимости и потенциально может усилить позиции Китая в индустриальном производстве передовых микросхем, известных как 2-нанометровые чипы.
Текущие системы литографии, используемые для производства микросхем, являются одними из самых сложных механизмов, созданных человеком. На данный момент широко используется экстремальное ультрафиолетовое (EUV) излучение с ультракороткой длиной волны для производства чипов с 7-нанометровыми узлами и ниже. Компания ASML единственная владеет данной технологией и доминирует на рынке. Однако китайские ученые исследуют альтернативный путь, который был начат в 2017 году и получил широкое признание после прорывов Huawei в производстве микросхем.
Проект под руководством профессора Тан Чжуаньсяна из Университета Цинхуа исследует новый механизм люминесценции, названный устойчивым микробанчингом (steady-state microbunching, SSMB). Эта теория использует энергию, высвобождаемую заряженными частицами во время ускорения, в качестве источника света. Результатом является узкополосное, малорассеивающее и непрерывное чистое EUV-излучение. Технология обещает высокую выходную мощность в 1000 Вт, что значительно превышает текущие возможности технологии ASML.
В 2019 году команда успешно провела первую презентацию в Берлине, а в 2021 году опубликовала свои результаты в журнале Nature. В 2022 году был разработан новый прототип на базе Университета Цинхуа. Профессор Пан Жилунг отметил, что ключевые технологии почти готовы к применению.
В феврале текущего года на специальном совещании в Сионгане обсуждалось, как культивировать технологические компании в новом районе. Представители проекта также посетили Сионган для выбора места для будущего строительства.
Созданная <span style="font-family: var(--ui-font-family-primary, var(--ui-font-family-helvetica));">технология может помочь Китаю избежать будущих санкций, хотя конкретный прогресс создания литографической машины на основе SSMB пока не раскрывается. Профессор Тан подчеркнул, что независимая разработка EUV-литографических машин на основе источников света SSMB открывает альтернативу санкционным технологиям, но для этого требуется продолжительное технологическое инновационное сотрудничество с отраслью.</span>
Китай Для просмотра ссылки Войди
Текущие системы литографии, используемые для производства микросхем, являются одними из самых сложных механизмов, созданных человеком. На данный момент широко используется экстремальное ультрафиолетовое (EUV) излучение с ультракороткой длиной волны для производства чипов с 7-нанометровыми узлами и ниже. Компания ASML единственная владеет данной технологией и доминирует на рынке. Однако китайские ученые исследуют альтернативный путь, который был начат в 2017 году и получил широкое признание после прорывов Huawei в производстве микросхем.
Проект под руководством профессора Тан Чжуаньсяна из Университета Цинхуа исследует новый механизм люминесценции, названный устойчивым микробанчингом (steady-state microbunching, SSMB). Эта теория использует энергию, высвобождаемую заряженными частицами во время ускорения, в качестве источника света. Результатом является узкополосное, малорассеивающее и непрерывное чистое EUV-излучение. Технология обещает высокую выходную мощность в 1000 Вт, что значительно превышает текущие возможности технологии ASML.
В 2019 году команда успешно провела первую презентацию в Берлине, а в 2021 году опубликовала свои результаты в журнале Nature. В 2022 году был разработан новый прототип на базе Университета Цинхуа. Профессор Пан Жилунг отметил, что ключевые технологии почти готовы к применению.
В феврале текущего года на специальном совещании в Сионгане обсуждалось, как культивировать технологические компании в новом районе. Представители проекта также посетили Сионган для выбора места для будущего строительства.
Созданная <span style="font-family: var(--ui-font-family-primary, var(--ui-font-family-helvetica));">технология может помочь Китаю избежать будущих санкций, хотя конкретный прогресс создания литографической машины на основе SSMB пока не раскрывается. Профессор Тан подчеркнул, что независимая разработка EUV-литографических машин на основе источников света SSMB открывает альтернативу санкционным технологиям, но для этого требуется продолжительное технологическое инновационное сотрудничество с отраслью.</span>
- Источник новости
- www.securitylab.ru
